辉光放电质谱是一种分析方法，使用辉光放电源作为离子源与质谱仪连接进行。辉光放电质谱在许多学科中得到了重要的应用。由于其直接固体注射，它已成为分析无机固体材料中杂质的有力方法，尤其是高纯度金属、合金和其他材料中的杂质。 
辉光放电质谱原理：辉光放电质谱仪由辉光放电离子源和质谱仪组成。辉光放电属于低电压放电。同时，样品在GD源中的雾化和电离在两个不同的区域进行，即阴极暗区near样品表面和阳极附近的负辉光区域，这也大大降低了基体效应。GD电源的供电方式可分为直流辉光放电（DC-GD）、射频辉光放电和脉冲辉光放电三种。其中，直流电源使用最为广泛，另外两种与质谱的结合仍处于实验室阶段，没有商用仪器。 
辉光放电质谱具有以下特点及功能：直接固态取样、离子源电离能力强、高灵敏度和分辨率、测量过程稳定、具有良好的再现性和再现性、周期表中几乎所有元素（C、O、H、N除外）都可以定性或定量分析，辉光放电质谱可以直接检测无机粉末、涂层/基材和非导电材料，无需样品制备，并提供各种元素的信息； 

辉光放电质谱分析的应用： 
1、高纯度材料分析 

高分辨率辉光放电质谱分析具有较强的干扰去除能力，动态范围宽，可实现恒定、痕量和超痕量分析。特别适用于高纯度物质的分析。 
2、深度分析 

深入分析对研究薄层材料具有重要意义。 
 3、导线材料分析 

直流质谱不能直接分析非导电材料。有两种常用的分析非导电材料的方法：第二阴极法和混合法。第二阴极方法对第二阴极的材料有严格的要求。